Redacción/La Página
Morelia, Michoacán.-La Facultad de Ingeniería Química de la Universidad Michoacana de San Nicolás de Hidalgo, llevará a cabo el Primer Congreso de Fotocatálisis de América Latina del 25 al 28 de septiembre , en el cual participan investigadores de esta Máxima Casa de Estudios y diversas instituciones de otros países .
El evento dará inicio con un curso pre Congreso sobre caracterización de fotocatálisis que se realizará también en el lugar sede del evento en el hotel Torreblanca Businees Class de la ciudad de Morelia.
De igual forma, se desarrollarán plenarias donde se abordarán los siguientes temas: “tratamiento de contaminantes de preocupación emergente por fotocatálisis solar”, por el doctor, Ricardo Gómez Romero (UAM-Iztapalapa;
“Semiconductores de óxidos mixtos de Titania-Ceria: aplicaciones foto degradación de compuestos orgánicos”, a cargo de Benito Serrano de la Universidad Autónoma de Zacatecas (UAZ); “Eficiencia del reactor foto CREC agua II usando seis catalizadores de foto durante la degradación de fenol”, lo expone la doctora Reyna Natividad de la Universidad Autónoma del Estado de México y “foto-degradación del 4-clorofenol en un flujo hacia abajo paralelo de columna de burbujas” por la doctora Carmen Duran.
El comité organizador Alejandro Pérez Larios; José Chávez Carvayar (IIM-UNAM); así como los nicolaitas Ricardo Rangel, Jaime Espino Valencia ,Rafael Huirache Acuña, Agustín Castro Montoya, Mercedes Tellez Arias y Aida Bejar Ubaldo.
Por otra parte el comité científico lo conforman: Ricardo Rangel de la Universidad Michoacana de San Nicolás de Hidalgo el profesor Soo Wohn Lee de la Universidad del Sol y la Luna de Corea del Sur, Ricardo Gómez de la Universidad Autónoma Metropolitana (UAM), Julio Andrés Pedraza Avella de Colombia, Rodolfo Zanella Specia de la UNAM, Sandra María Sarmento de Brazil, Socorro Oros del Centro de Ciencias Aplicadas y Desarrollo Tecnológico de la UNAM; Eduardo Pino de Chile; Gilberto Torres de la Universidad Juárez Autónoma de Tabasco; Carlos Guerrero de Colombia; Odilón Vázquez C. de la Universidad Autónoma de Nuevo León ; Orlando Mario Alfano de Argentina; Vicente Rodríguez (IPICYT),Marta Litter del CNEA, de Argentina, Gloria del Ángel Montes UAM, Reyna Natividad, de la Universidad Autónoma del Estado de México; Benito Serrano Rosales de la Universidad Autónoma de Zacatecas y Alejandro Pérez Larios.
Otros temas que se abordarán durante el evento académico se referirán a Sintesis y caracterización de materiales, modelado y simulación, fotorreactores catalítico,fotoquímica, fotoelectroquímica y aplicaciones medioambientales.
